光薄片和兩面光薄片的磨制
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人氣：37 發表時間：2022-04-07
粗、細拋光操作一般的礦石光片只孺進行一次 拋光，某些硬而韌性的樣品則需粗細兩道拋光工序，才干達到 質最要求。
粗拋光所用的盤面資料和拋光料有:橡膠，磨料為1-1.5 微米的氧化鋁或碳化硅及氧化鐵;帆布、磨料為氧化鐵或氧化飾;呢子，磨料為重銘酸錢加報化鉻。磨盤轉速均以400-600 轉/分為宜。
細拋光的盤面資料和拋光料可選用:①金絲絨或棉布絨，磨料為重鉻酸按加氧化鉻;②橡膠，磨料為氧化鉻、重鉻酸鐵。
用橡膠作粗拋光盤時，選用氧化鐵加少量重鉻酸鐵和水混合成的粗拋光懸浮體，效果也很好。粗拋光一塊光片的時 間一般不超越半分鐘至一分鐘。軟礦藏不籍經粗拋光而直接 進行細拋光，時間與粗拋光差不多。較硬的礦藏直接細拋光，則需1-2分鐘。金剛石、剛玉和紅寶石之類特硬資料的細磨 和拋光，需用金剛石研磨膏—金剛石微粉和油的混合物;油 可選用稀機油(機油和煤油混合)或甘油。遇水易溶的樣品用氧化鐵(或氧化鐵)加稀油混合物作拋光液，在橡膠拋光盤上拋光，其效果也很理想。
拋光時樣品要不斷更換方位，并在盤上沿拋光盤平徑方向來回運動。高硬度礦藏可適當加力，加拋光料的次數也可頻頻些，約20秒鐘加一次。較軟的礦藏則要少加料輕拋光， 拋光盤上要堅持必定的水量，太枯燥時效果欠安。要避免粗砂混入，影響質量。
